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直流真空陰極弧管狀內(nèi)壁制備TiN涂層性能研究

核聚變與等離子體物理 頁(yè)數(shù)： 8 2024-12-10
摘要： 采用直流真空陰極弧沉積技術(shù)在管狀內(nèi)壁上制備了TiN涂層。用光學(xué)顯微鏡、SEM(掃描電子顯微鏡)、臺(tái)階儀、X射線衍射能譜(XRD)、顯微硬度計(jì)檢測(cè)了涂層的結(jié)構(gòu)和力學(xué)等相關(guān)特性。結(jié)果表明：管狀內(nèi)壁表面涂層厚度在2.7～3.0μm，厚度均勻性為94.7%；涂層表面粗糙，均存在著大量微米級(jí)的顆粒分布，表面粗糙度Ra較未處理的樣品增幅約為0.2～0.3μm，涂層由立方相的TiN(111)... （共8頁(yè)）

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